美国针对中国半导体产业的设备出口限制正在继续向光刻机领域扩大。美国国会目前正在推进《多边硬件技术管制协调法案》（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act，简称MATCH Act），试图推动荷兰、日本等掌握关键半导体制造设备的国家采用与美国更加接近的对华出口管制标准。荷兰政府已经明确反对美国通过国内立法影响荷兰企业的出口决定，并派官员赴华盛顿交涉，但相关法案仍在美国国会推进，荷兰政府本身无法决定美国立法是否继续。

这项法案直接涉及全球最大光刻机制造商ASML。过去几年，美国和荷兰已经逐步限制ASML向中国出售最先进的半导体光刻设备。中国目前无法购买ASML的EUV极紫外光刻机，部分高性能DUV深紫外光刻设备也已经受到荷兰出口许可限制。不过，ASML仍然可以向中国销售部分DUV设备，包括部分浸没式光刻机，这些设备既广泛应用于成熟制程芯片生产，也能够通过多重曝光等技术参与更先进制程的制造。

美国国会议员认为，这一限制体系仍然存在缺口。美国半导体设备企业受到美国出口管制后，部分产品已经无法继续供应中国，但荷兰ASML、日本东京电子等外国厂商并不完全受到相同规则约束。在美国方面看来，如果中国晶圆厂仍然能够从荷兰、日本购买性能相近的设备，美国单独限制本国企业并不能完全达到压缩中国先进芯片制造能力的目的。MATCH Act正是在这一背景下提出，其核心方向是把出口管制从美国企业扩大到整个主要半导体设备供应体系。

按照目前推进的版本，美国希望进一步限制中国获得浸没式DUV光刻设备，并可能将设备维修、零部件和技术服务纳入管制范围。如果这些内容最终成为法律，影响将不再局限于中国未来能否购买新的ASML光刻机，还可能涉及已经安装在中国晶圆厂中的部分设备是否能够继续获得国外厂商维修和技术支持。对于依赖进口设备运行的先进芯片生产线而言，长期维护、软件升级、关键零部件以及工程技术支持的重要性并不低于购买设备本身。

这也是荷兰政府反对意见最集中的地方。荷兰外贸与发展合作大臣斯约尔德·斯约尔德斯马此前在提交给荷兰议会的答复中表示，荷兰反对美国出口管制法律产生域外效力。荷兰政府并没有否定先进半导体技术需要出口管制，实际上荷兰近年来已经多次扩大ASML相关设备的出口许可范围，但海牙认为，荷兰企业能够向哪些国家出售产品，应当由荷兰依据本国法律和国际安全政策作出决定，而不是由美国国会通过国内立法直接设定。

斯约尔德斯马随后前往华盛顿，与美国政府官员以及国会议员讨论相关法案。荷兰方面提出，半导体出口限制应当通过美国、荷兰、日本等国家之间协调后分别实施，而不应由一个国家把本国出口规则延伸至其他国家企业。对于荷兰而言，这不仅关系到ASML一家企业的中国业务，也关系到一个更广泛的问题：美国是否可以依靠自身在技术、软件、零部件和金融体系中的优势，实际上决定欧洲高科技企业可以进入哪些海外市场。

但荷兰能够采取的主要手段仍然是外交交涉和游说。MATCH Act属于美国国内立法程序，是否通过最终取决于美国众议院、参议院以及总统。荷兰政府可以要求修改条款，也可以通过双边谈判争取更大政策空间，却没有权力阻止美国国会审议法案。这也是此次美荷分歧与过去几轮光刻机限制相比更值得关注的地方——此前不少限制是美国与荷兰经过谈判后分别出台，而这一次，美国国会正在尝试建立一种能够直接推动盟友实施相同限制的法律机制。

对于ASML而言，中国市场仍然具有重要商业价值。中国此前曾是ASML最大的设备市场之一。随着EUV和部分先进DUV设备被限制出口，公司在中国能够销售的产品范围已经明显收窄，但大量成熟制程晶圆厂仍然需要DUV设备，因此中国销售收入并未消失。ASML此前预计，随着出口限制继续扩大，中国市场占公司总收入的比例将进一步下降。

如果美国新的限制最终覆盖更多DUV设备，中国客户能够购买的ASML产品范围还会继续缩小。与此同时，如果维修和技术服务也受到限制，ASML过去已经出售给中国客户的大量设备也可能面临新的合规要求。这意味着出口管制可能从“阻止中国购买新设备”，逐步延伸至“限制现有设备持续运行和升级”，对中国半导体制造体系产生更长期影响。

美国扩大限制的背景，是中国近年来仍在推进先进芯片制造。虽然中国无法获得EUV光刻机，但包括中芯国际在内的企业已经使用DUV多重曝光等方式生产先进制程芯片。这种制造方式成本更高、工艺更加复杂，良率也更难控制，却表明仅仅禁止EUV并不能完全阻止中国继续推进先进制程。对于美国政策制定者而言，浸没式DUV因此从过去相对次一级的设备，逐渐成为新的出口管制重点。

与此同时，中国也正在加快国产光刻设备和其他半导体制造设备的研发。与ASML相比，中国国产光刻机在制程能力、稳定性、产能和商业化规模上仍存在明显差距，但持续收紧的海外限制正在推动中国政府和半导体企业增加国产替代投入。对美国而言，限制外国设备能够提高中国建设先进生产线的技术和时间成本；对荷兰和ASML而言，限制越长期化，也意味着中国客户越有动力寻找能够替代欧洲设备的国内供应商。

这使ASML逐渐成为美中半导体竞争中最特殊的一家公司之一。它不是美国企业，总部和主要研发体系均位于荷兰，但ASML掌握的光刻技术又是全球先进芯片制造最难替代的环节之一。美国希望把这一技术优势纳入对华出口管制体系，荷兰则希望在安全合作与本国产业利益之间保持更多政策自主权，中国则试图降低自身半导体产业对ASML设备的长期依赖。

如果MATCH Act最终按照目前的主要方向通过，美国针对中国半导体产业的限制将进一步从最先进的EUV设备向仍然具有广泛用途的DUV设备扩展，并可能从新设备出口延伸至设备维修和技术服务。届时受到影响的将不只是ASML未来在中国还能卖多少台光刻机，也包括已经建立起来的中国半导体生产线能否继续稳定获得国外设备供应商支持。

美国、荷兰和中国围绕ASML形成的这场政策博弈，也反映出全球半导体管制正在发生变化。过去出口限制主要集中在少数最先进技术，如今限制范围正在逐步向制造设备、零部件、维修服务和供应链协调延伸。光刻机因此不再只是芯片生产设备，也已经成为美国推动盟友统一对华科技政策、荷兰维护产业自主权以及中国推进半导体国产化之间最直接的交汇点之一。